发明名称 雷射控制器
摘要 本发明揭示一种控制器(7),其用于控制对一雷射(3)之电源供应,该控制器(7)系用于测定一物件(8)之运动。该控制器包括一电源(2),该电源(2)经配置以回应于一控制器信号向雷射(3)提供功率脉冲(10、11)。该控制器(7)藉由侦测已与自物件(8)反射之脉冲相互作用之雷射辐射,来控制对可获得一可靠结果之周期产生脉冲,以节省功率消耗。进一步,该等功率脉冲(10、11)包括一加热分量(9),该加热分量(9)用于稳定该雷射(3)之温度,且因此校准该雷射(3)以产生一已知的雷射波长。
申请公布号 TWI445266 申请公布日期 2014.07.11
申请号 TW095131828 申请日期 2006.08.29
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 荷兰 发明人 马歇尔 史库蔓娜;亚伯特 史丁克;卡斯丁 海克斯;派特尔 何温
分类号 H01S5/06 主分类号 H01S5/06
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种用于控制一雷射(3)并用于以一降低的功率损耗来操作该雷射之控制系统,该雷射(3)用于以雷射光辐照一物件(8),以判定该物件相对于该雷射之速度及/或位移,该控制系统(7)包括:一电源(2),该电源(2)经配置以向该雷射(3)提供功率脉冲(10、11),以发射入射辐射来入射该物件;及一控制器,其连接至该电源,其中该控制器经程式化以基于回应该入射辐射而自该物件反射之反射雷射光以判定该物件之速度及/或位移,并根据该反射雷射光及该入射辐射之间的互相作用所产生的一信号之功率而藉由控制该电源来提供该降低的功率损耗,以自动地停止该功率脉冲(10、11)之供应,其中该反射雷射光包含回应该入射辐射而自该物件(8)反射之雷射光,且其中若该信号之功率低于一第一临限值或高于一第二临限值,则该控制器自动地停止该功率脉冲之供应。
地址 荷兰