| 发明名称 | 多垫式化学机械研磨装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种多垫式化学机械研磨装置，所述多垫式化学机械研磨装置包括研磨平台和研磨垫组，所述研磨垫组固定在所述研磨平台上，所述研磨垫组包括多个嵌合在一起的研磨垫。本发明多垫式化学机械研磨装置采用多个研磨垫结构，研磨垫之间相互嵌合，采用这种结构使得研磨垫能够实现快速更换。进一步的，所述多垫式化学机械研磨装置包括高度调整装置，能够自动调整研磨垫高度，提高了化学机械研磨设备的工作效率。 | ||
| 申请公布号 | CN103909466A | 申请公布日期 | 2014.07.09 |
| 申请号 | CN201210593395.1 | 申请日期 | 2012.12.31 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 唐强;汪坚俊 |
| 分类号 | B24B37/22(2012.01)I;B24B37/26(2012.01)I | 主分类号 | B24B37/22(2012.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种多垫式化学机械研磨装置，其特征在于，包括：研磨平台和研磨垫组；所述研磨垫组固定在所述研磨平台上；所述研磨垫组包括多个嵌合在一起的研磨垫。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 | ||