用于等离子腔室部件的抗等离子涂层

摘要

本发明公开了抗等离子涂层材料、抗等离子涂层以及在硬件部件上形成此种涂层的方法。在一个实施方式中，硬件部件是静电夹盘(ESC)，抗等离子涂层形成在该静电夹盘的表面上。抗等离子涂层利用热喷涂以外的方法形成，以提供具有优势材料性质的抗等离子涂层。

主权项

一种等离子体处理腔室的部件，至少包含：基材：以及抗等离子涂层，所述抗等离子涂层被设置在所述基材的至少一部分上方，其中所述抗等离子涂层包含非所述基材原生的陶瓷，并具有低于1%的孔隙度，其中所述陶瓷的主要成分为氧化钇，并且其中所述陶瓷是具有晶体纹理的多晶，所述晶体纹理具有优先出平面生长方向，所述优先出平面生长方向在所述抗等离子涂层的外表面上呈现所述氧化钇的平面（111）。