| 摘要 |
1. Устройство (1) для механического текстурирования кремниевой пластины (4), которая предназначена для составления фотоэлектрического элемента, включающее в себя множество игл (3, 30, 31) из карбида вольфрама и основание (2), включающее в себя множество выемок (20), каждая из которых способна вмещать иглу из карбида вольфрама таким образом, чтобы она могла скользить, и средства для удержания каждой из множества указанных игл, прижатой к кремниевой пластине с постоянной силой, которая не зависит от изменений толщины указанной пластины.2. Устройство по п.1, в котором основание способно вмещать иглы таким образом, чтобы они могли свободно скользить.3. Устройство по п.2, в котором средства приложения силы давления являются собственным весом каждой из игл (3, 30, 31).4. Устройство по одному из пп.1-3, в котором иглы имеют нижнюю часть (31) в форме прямой призмы с треугольным основанием, угол вершины которого меньше, чем (200) угол выемок (20), способных их вмещать.5. Устройство по п.4, в котором угол вершины треугольника игл (31) имеет значение в интервале между 30 и 45°.6. Устройство по одному из пп.1-3, в котором интервал травления d принимает значения в интервале между 5 мкм и 40 мкм.7. Устройство по п.4, в котором интервал травления d принимает значения в интервале между 5 мкм и 40 мкм.8. Устройство по п.5, в котором интервал травления dпринимает значения в интервале между 5 мкм и 40 мкм.9. Способ механического текстурирования кремниевой пластины (4), предназначенной для составления фотоэлектрического элемента, реализуемый с помощью устройства (1) по любому из предыдущих пунктов, в соответствии с которым прилагается постоянная сила давления в интервале между 0,1 Н � |
