具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉积设备

摘要

本发明是一种具有多个子反应器的金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备。该设备包括气路装置和多个子反应器。利用共用气路设备和分气装置，至少两套完全相同的MOCVD子反应器在相同的条件下同时生长以得到一致的外延薄膜或者器件结构。通过增加子反应器的个数而不是增加单个反应器的容量来提高MOCVD设备的批产量，克服了提高单个反应器容量引起的流场和温场控制的困难，从而得到可以大规模生产的MOCVD设备。

主权项

一种具有多个子反应器结构的金属有机化学气相沉积(MOCVD)设备，其特征在于，包括：共用气路(101)，所述共用气路(101)包括MO源、氮气、氨气、氢气气路；反应室(160)，每个反应室包括多个子反应器(161)；子反应器分气装置(111)，从所述共用气路(101)得到子反应器(161)中MOCVD外延所需要的各种气氛，控制各种气体的流量；压强控制系统(170)，控制整个反应室(160)的压强；其中所述子反应器(161)包括：子反应器匀气罩(121)，控制子反应器中的气流状态；子反应器旋转轴(151)，带动子反应器衬底托盘(131)旋转；子反应器衬底托盘(131)，由子反应器旋转轴(151)带动进行转动；子反应器加热器(141)，用来对子反应器衬底托盘(131)加热。