发明名称 STRAINED TRANSISTOR STRUCTURE
摘要 A strain enhanced transistor is provided having a strain inducing layer overlying a gate electrode. The gate electrode has sloped sidewalls over the channel region of the transistor.
申请公布号 US2014141588(A1) 申请公布日期 2014.05.22
申请号 US201414164055 申请日期 2014.01.24
申请人 STMICROELECTRONICS, INC. 发明人 DOVE BARRY
分类号 H01L29/66 主分类号 H01L29/66
代理机构 代理人
主权项
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