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发明名称 晶体半导体膜的制造方法和半导体装置
摘要
申请公布号 TWI438823 申请公布日期 2014.05.21
申请号 TW096131874 申请日期 2007.08.28
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 日本 发明人 森若智昭;田中幸一郎
分类号 H01L21/027;H01L21/324 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本
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