发明名称 |
一种Bi<sub>1-x</sub>Dy<sub>x</sub>FeO<sub>3</sub> 低漏电流薄膜及其制备方法 |
摘要 |
一种Bi1-xDyxFeO3低漏电流薄膜及其制备方法,x=0.09~0.12,该薄膜为菱方结构,均匀性好,空间点群为R-3m(166),在117kV/cm的电场下,其漏电流密度为1.01×10-8~6.39×10-9A/cm2。制备方法:按摩尔比为(1.05-x):1:x将硝酸铋、硝酸铁和硝酸镝溶于乙二醇甲醚和醋酸酐混合而成的混合液中,得前驱液;在基片上旋涂前驱液,匀胶后烘烤得干膜,再退火,得Bi1-xDyxFeO3薄膜,重复旋涂前驱液、烘烤、退火至达到所需的薄膜厚度,得Bi1-xDyxFeO3低漏电流薄膜。本发明设备要求简单,掺杂量易控,能够大幅度减小BiFeO3薄膜的漏电流密度。 |
申请公布号 |
CN103693694A |
申请公布日期 |
2014.04.02 |
申请号 |
CN201310714220.6 |
申请日期 |
2013.12.20 |
申请人 |
陕西科技大学 |
发明人 |
谈国强;晏霞 |
分类号 |
C01G49/00(2006.01)I |
主分类号 |
C01G49/00(2006.01)I |
代理机构 |
西安通大专利代理有限责任公司 61200 |
代理人 |
陆万寿 |
主权项 |
一种Bi1‑xDyxFeO3低漏电流薄膜,其特征在于:其化学式为Bi1‑xDyxFeO3,x=0.09~0.12;在117kV/cm的电场下,其漏电流密度为1.01×10‑8~6.39×10‑9A/cm2。 |
地址 |
710021 陕西省西安市未央区大学园1号 |