发明名称 铜黑铜铁矿透明P型半导体之制造及应用方法
摘要
申请公布号 TWI431130 申请公布日期 2014.03.21
申请号 TW098143734 申请日期 2009.12.18
申请人 应用材料股份有限公司 美国 发明人 辛格卡沙尔K;那拉马苏欧卡蓝;克里希那奈提M;斯努瑞麦可;堤瓦瑞亚旭托许
分类号 C23C14/06;C23C14/28;H01L29/786;H01L31/042;H01M14/00 主分类号 C23C14/06
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项
地址 美国