发明名称 |
铜黑铜铁矿透明P型半导体之制造及应用方法 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI431130 |
申请公布日期 |
2014.03.21 |
申请号 |
TW098143734 |
申请日期 |
2009.12.18 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 美国 |
发明人 |
辛格卡沙尔K;那拉马苏欧卡蓝;克里希那奈提M;斯努瑞麦可;堤瓦瑞亚旭托许 |
分类号 |
C23C14/06;C23C14/28;H01L29/786;H01L31/042;H01M14/00 |
主分类号 |
C23C14/06 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |