| 摘要 |
Es wird ein Poliermittel zum Polieren eines nicht-Oxid-Einkristallsubstrats, wie z. B. eines Siliziumcarbid-Einkristallsubstrats, mit einer hohen Poliergeschwindigkeit, so dass eine glatte Oberfläche erhalten wird, bereitgestellt. Dieses Poliermittel umfasst ein Oxidationsmittel, das ein Redoxpotenzial von 0,5 V oder mehr aufweist und ein Übergangsmetall enthält, Siliziumoxidteilchen, Ceroxidteilchen und ein Dispersionsmedium, wobei das Massenverhältnis der Siliziumoxidteilchen zu den Ceroxidteilchen von 0,2 bis 20 beträgt. |
