发明名称 |
一种阵列结构及其制作方法、阵列基板和显示装置 |
摘要 |
本发明公开了一种阵列结构及其制作方法、基于该阵列结构的阵列基板和显示装置,其中阵列结构的制作方法是在栅绝缘层上形成源漏极金属层之前还包括:对源漏极金属信号接入端子所在位置对应的栅绝缘层进行刻蚀,在栅绝缘层上形成过孔结构;或者在栅绝缘层上形成源漏极金属层之后还包括:在源漏极金属信号接入端子所在位置对应的源漏极金属层上形成过孔结构,过孔结构的两侧具有缓和的斜坡。通过对源漏极金属层下方的栅绝缘层进行刻蚀,降低源漏极金属层上方的导电膜层的高度;或者对源漏极金属层进行刻蚀,形成两侧具有缓和斜坡的过孔结构,交替布线中SD基和Gate基上方的ITO高度相同,使得导电球受力更加均匀,提高导线性能。 |
申请公布号 |
CN103560113A |
申请公布日期 |
2014.02.05 |
申请号 |
CN201310571411.1 |
申请日期 |
2013.11.15 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
史大为;冀新友;李付强;郭建 |
分类号 |
H01L21/84(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;H01L23/498(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/84(2006.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
李迪 |
主权项 |
一种阵列结构的制作方法,其特征在于,在栅绝缘层上形成源漏极金属层之前还包括:对源漏极金属信号接入端子所在位置对应的栅绝缘层进行刻蚀,在所述栅绝缘层上形成过孔结构。 |
地址 |
100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 |