一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统

摘要

本发明提供一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均发出o光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有双折射晶体，所述双折射晶体对o光沿直线透射，对e光进行折射；在双折射晶体后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；位于半导体激光器叠阵与双折射晶体之间，在反方向经双折射晶体折射形成的光路上设置有吸光板。

主权项

一种具有防光反馈作用的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器叠阵，其特征在于：所述半导体激光器叠阵的所有巴条偏振态一致，均发出o光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有双折射晶体，所述双折射晶体对o光沿直线透射，对e光进行折射；在双折射晶体后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；位于半导体激光器叠阵与双折射晶体之间，在反方向经双折射晶体折射形成的光路上设置有吸光板。