| 摘要 |
<p>Es wird eine Lithographieanlage (100) offenbart, die einen Spiegel (200) mit mindestens zwei Spiegelsegmenten (210), die derart zusammengefügt sind, dass zwischen den Spiegelsegmenten (210) ein Zwischenraum (214) ausgebildet ist, und einen Sensor (230, 300) zur Erfassung der relativen Lage der Spiegelsegmente (210) aufweist, wobei der Sensor (230, 300) im Zwischenraum (214) zwischen den Spiegelsegmenten (210) angeordnet ist.</p> |
