发明名称 |
一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法,该方法采用金属丝网作为基片,并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。利用本发明,采用金属丝网结构能够有效提供PMMA光刻胶与金属丝网从分相互包裹融合,使同步辐射光刻后的PMMA光刻胶柱子结构牢固地与金属丝网结合,不会发生倒塌和脱落,保证了PMMA光刻胶柱子结构具有非常大的高宽比,从而提高了LIGA技术的研究水平。 |
申请公布号 |
CN103488051A |
申请公布日期 |
2014.01.01 |
申请号 |
CN201310380360.4 |
申请日期 |
2013.08.28 |
申请人 |
中国科学院高能物理研究所 |
发明人 |
伊福廷 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
任岩 |
主权项 |
一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法,其特征在于,该方法采用金属丝网作为基片,并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。 |
地址 |
100049 北京市石景山区玉泉路19号乙 |