| 摘要 |
1. Способ изготовления голографических пленок, при реализации которогоi. готовят фотополимерную композицию, включающую в себя в качестве компонентовA) полимеры матрицыB) записывающие мономерыC) фотоинициирующую системуD) в качестве опции компонент, неспособный к фотополимеризацииE) и при необходимости катализаторы, стабилизаторы радикалов, растворители, присадки, а также прочие вспомогательные и/или дополнительные веществаii. фотополимерную композицию наносят сплошной пленкой на пленку-носитель иiii. сушат фотополимерную композицию на пленке-носителе при температуре 60<Т<120°С,причем в качестве компонентов для фотополимерной композиции выбирают только соединения, показатели ТГА 95 которых лежат выше 100°С и по меньшей мере на 30°С превышают температуру Т, и применяют фотополимерную композицию с модулем плато ≥0,030 МПа.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что фотополимерную композицию сушат при температуре 70<Т<100°С.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что определяют показатели ТГА 95 отдельных компонентов, помещая навеску образца конкретного компонента ок. 10 мг в алюминиевый лоток объемом 70 мкл, вводя алюминиевый лоток в печь термовесов, предпостительно термовесов TG50 производства фирмы Mettler-Toledo и при постоянной скорости нагрева печи в 20 К/мин измеряя потерю массы образца в открытом алюминиевом лотке, причем стартовая температура печи составляет 30°С, а конечная температура печи составляет 600°С, печь во время определения продувают потоком азота 200 мл/мин, а в качестве значения ТГА 95 каждого конкретного компонента определяют температуру, при которой наступила потеря массы пробы в 5% масс, от исходной навески образца.4. Способ п |
