发明名称 光学用陶瓷材料的热处理装置、光学用陶瓷材料的热处理方法、合成石英玻璃的热处理方法、光学系统的制造方法、及曝光装置的制造方法
摘要 本发明的光学用陶瓷材料的热处理装置具有:炉体,在内部收纳应进行热处理的光学用陶瓷材料;降温控制加热器,在使应进行热处理的光学用陶瓷材料降温时发热,以控制降温速度;冷媒导入部,导入冷媒,以使冷媒在炉体的内部流动;和控制部,用来控制降温速度;降温控制加热器配置在炉体的内部或/及所述冷媒导入部,控制部控制降温控制加热器的发热量、和炉体内部的冷媒的流量中的至少一者,且以将应进行热处理的光学用陶瓷材料或其附近的降温速度保持为预先决定的模式的方式进行控制。
申请公布号 CN103429542A 申请公布日期 2013.12.04
申请号 CN201280011368.7 申请日期 2012.03.02
申请人 株式会社尼康 发明人 原雄太
分类号 C03B20/00(2006.01)I;C03B32/00(2006.01)I;G02B1/02(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 C03B20/00(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 姚亮
主权项 一种光学用陶瓷材料的热处理装置,其特征在于:具有炉体,在内部收纳应进行热处理的光学用陶瓷材料;降温控制加热器,在使所述应进行热处理的光学用陶瓷材料降温时发热,以控制降温速度;冷媒导入部,导入所述冷媒,以使冷媒在所述炉体的内部流动;和控制部,用来控制所述降温速度;所述降温控制加热器配置在所述炉体的内部或/及所述冷媒导入部,所述控制部控制所述降温控制加热器的发热量、和所述炉体的内部的所述冷媒的流量中的至少一者,且以将所述应进行热处理的光学用陶瓷材料或其附近的降温速度保持为预先决定的模式的方式进行控制。
地址 日本东京都