发明名称 一种辐射聚合缓释放高分子材料的制备方法
摘要 本发明涉及一种辐射聚合缓释放高分子材料的制备方法,该方法是将高分子材料按不同比例混合配方的缓释放材料,或与需要缓释的药物混和均匀的缓释放高分子材料,置于不含氯原子的塑料容器中,密封,抽真空后用高纯度氮气饱和,置低于-18℃保温容器中,用60Coγ射线或5-10MeV电子束进行辐照,辐照工作剂量为9.9kGy-20kGy,最低有效剂量9.9kGy,最大耐受剂量20kGy,辐照剂量不均匀度<1.3,使高分子材料聚合,然后按不同用途制成片、粒、针不同形状,吸水膨胀后用以固定化学物、酶和细菌。本发明改进了现有技术存在的缺陷,提供了一种更加促进辐射聚合作用的制备缓释放材料的方法。
申请公布号 CN102382238B 申请公布日期 2013.09.25
申请号 CN201110239624.5 申请日期 2011.08.19
申请人 宁波超能科技股份有限公司 发明人 施惠栋;谢宗传
分类号 C08F220/28(2006.01)I;C08F222/14(2006.01)I;C08F220/06(2006.01)I;C08F2/46(2006.01)I;C08F2/54(2006.01)I;A61K47/32(2006.01)I;C12N11/08(2006.01)I 主分类号 C08F220/28(2006.01)I
代理机构 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人 张妍;贾慧琴
主权项 一种辐射聚合缓释放高分子材料的制备方法,其特征在于,包含以下步骤:步骤1,将缓释放高分子材料置于不含氯原子的塑料容器中,密封,抽真空;步骤2,将步骤1所述的真空容器用氮气饱和;步骤3,将步骤2所述容器置于温度低于‑18℃的保温容器中,用60Co γ射线或5‑10MeV电子束进行辐照使高分子材料聚合;辐照工作剂量为9.9kGy‑20kGy,辐照剂量不均匀度<1. 3。
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