| 发明名称 | 导电性保护膜、转印部件、处理盒和图像形成装置 | ||
| 摘要 | 一种导电性保护膜、转印部件、处理盒和图像形成装置，所述导电性保护膜的表面层包含：树脂和作为导电性材料的具有结构化构造的无机金属氧化物或具有约10以上的纵横比的无机金属氧化物，所述纵横比是长轴和短轴之间的比。 | ||
| 申请公布号 | CN103309213A | 申请公布日期 | 2013.09.18 |
| 申请号 | CN201210421152.X | 申请日期 | 2012.10.29 |
| 申请人 | 富士施乐株式会社 | 发明人 | 鸟越薰;穴泽一则 |
| 分类号 | G03G15/16(2006.01)I;G03G21/18(2006.01)I;G03G15/00(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I;C08L75/04(2006.01)I;C08K3/22(2006.01)I;C08K7/08(2006.01)I | 主分类号 | G03G15/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 丁香兰;庞东成 |
| 主权项 | 一种导电性保护膜，所述导电性保护膜包含：树脂和作为导电性材料的具有结构化构造的无机金属氧化物或具有约10以上的纵横比的无机金属氧化物，所述纵横比是长轴和短轴之间的比。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||