发明名称 一种枝状异质结纳米线阵列结构材料的制备方法
摘要 一种枝状异质结纳米线阵列结构材料的制备方法,涉及一种纳米线阵列结构材料的制备方法。一个制备Si纳米线阵列的步骤;一个沉积ZnO薄膜的步骤;一个制备ZnO纳米线的步骤。应用一种低成本的方法制备了枝状结构Si/ZnO纳米线阵列。首先在室温条件下用金属辅助化学刻蚀法在Si衬底上制备了Si纳米线阵列,Si纳米线的直径尺寸及分布都比较均匀;然后利用水热法在Si纳米线的表面生长了ZnO纳米线,得到了枝形结构的Si/ZnO纳米线阵列。与现有的纳米材料相比,该结构材料拥有异质结界面,可通过改变材料成分调节能带结构,并且枝状结构增加了样品的曲率效应和表面积,非常适用于太阳能电池及光催化领域。
申请公布号 CN103296141A 申请公布日期 2013.09.11
申请号 CN201310215286.0 申请日期 2013.06.03
申请人 厦门大学;浙江大学 发明人 黄胜利;杨倩倩;李书平;康俊勇
分类号 H01L31/18(2006.01)I;B01J23/06(2006.01)I;B01J35/06(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人 马应森
主权项 一种枝状异质结纳米线阵列结构材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:1)一个制备Si纳米线阵列的步骤;2)一个沉积ZnO薄膜的步骤;3)一个制备ZnO纳米线的步骤。
地址 361005 福建省厦门市思明南路422号