发明名称 用于氢生产的系统和方法
摘要 用于生产氢气、碳材料和/或一氧化碳气体的系统包括用于化学气相沉积(CVD)的反应室,其中,所述CVD室包括限定具有下部和上部的腔的向上延伸壁,其中,上部的体积容量大于下部的体积容量,并且所述壁提供有具有多个延伸至腔体中的突出的内表面,用于降低在那里的腔体的水平横截面积。
申请公布号 CN103249672A 申请公布日期 2013.08.14
申请号 CN201180056041.7 申请日期 2011.11.24
申请人 谢嘉骏 发明人 谢嘉骏;S·皮特斯
分类号 C01B31/02(2006.01)I;C01B3/30(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C23C16/442(2006.01)I 主分类号 C01B31/02(2006.01)I
代理机构 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人 王崇;刘国平
主权项 一种用于混合生产氢气、碳材料和一氧化碳气体的系统,所述系统包括用于化学气相沉积的反应室,其中,所述反应室包括限定具有下部和上部的腔体的向上延伸壁,其中,该腔体的上部的体积容量大于下部的体积容量,使得为具有较低密度的材料提供较长的停留时间,并且具有不同密度的材料可在反应室中实现相同或类似的循环速度,并且其中,所述壁限定提供有多个延伸至腔体中的突出的内表面,用于降低在那里的腔体的水平横截面积。
地址 中国香港湾仔杜老志道6号群策大厦6层