发明名称 |
用于氢生产的系统和方法 |
摘要 |
用于生产氢气、碳材料和/或一氧化碳气体的系统包括用于化学气相沉积(CVD)的反应室,其中,所述CVD室包括限定具有下部和上部的腔的向上延伸壁,其中,上部的体积容量大于下部的体积容量,并且所述壁提供有具有多个延伸至腔体中的突出的内表面,用于降低在那里的腔体的水平横截面积。 |
申请公布号 |
CN103249672A |
申请公布日期 |
2013.08.14 |
申请号 |
CN201180056041.7 |
申请日期 |
2011.11.24 |
申请人 |
谢嘉骏 |
发明人 |
谢嘉骏;S·皮特斯 |
分类号 |
C01B31/02(2006.01)I;C01B3/30(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I;C23C16/442(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京润平知识产权代理有限公司 11283 |
代理人 |
王崇;刘国平 |
主权项 |
一种用于混合生产氢气、碳材料和一氧化碳气体的系统,所述系统包括用于化学气相沉积的反应室,其中,所述反应室包括限定具有下部和上部的腔体的向上延伸壁,其中,该腔体的上部的体积容量大于下部的体积容量,使得为具有较低密度的材料提供较长的停留时间,并且具有不同密度的材料可在反应室中实现相同或类似的循环速度,并且其中,所述壁限定提供有多个延伸至腔体中的突出的内表面,用于降低在那里的腔体的水平横截面积。 |
地址 |
中国香港湾仔杜老志道6号群策大厦6层 |