四级光掩模及其使用方法以及光掩模坯料

摘要

公开了一种四级光掩模及其使用方法以及四级光掩模制造用光掩模坯料。所述四级光掩模包括遮光部分、光透射部分及分别具有不同的透光率的第一光半透射部分和第二光半透射部分，并在转印目标上形成厚度阶段性地或连续地变化的抗蚀图案，所述四级光掩模的特征在于，所述第一光半透射部分通过在透明衬底的表面上设置光半透射性的第一光半透射膜而构成，所述第二光半透射部分通过在所述透明衬底的表面上设置光半透射性的第二光半透射膜而构成，所述第二光半透射部分和所述第一光半透射部分的曝光光的透光率不同，所述遮光部分通过在所述透明衬底的表面上层叠所述第一光半透射膜、遮光膜及所述第二光半透射膜而构成。

主权项

一种四级光掩模，所述四级光掩模包括遮光部分、光透射部分及分别具有不同的透光率的第一光半透射部分和第二光半透射部分，并且所述遮光部分、第一光半透射部分和第二光半透射部分分别在转印目标上形成厚度阶段性地或连续地变化的抗蚀图案，所述四级光掩模的特征在于，所述第一光半透射部分通过在透明衬底的表面上设置光半透射性的第一光半透射膜而构成，所述第二光半透射部分通过在所述透明衬底的表面上设置光半透射性的第二光半透射膜而构成，所述第二光半透射部分和所述第一光半透射部分的曝光光的透光率不同，所述遮光部分通过在所述透明衬底的表面上按所述第一光半透射膜、遮光膜及所述第二光半透射膜的顺序层叠而构成，所述第一光半透射膜和所述遮光膜为对彼此的蚀刻具有抗蚀性的膜，所述第二光半透射膜和所述遮光膜由能够通过同种蚀刻气体或蚀刻液体蚀刻的材料构成。