发明名称 一种用于光阻涂布设备的接触式浸润槽
摘要 本发明提供了一种用于光阻涂布设备的接触式浸润槽,包括浸润槽主体和涂布喷头,所述涂布喷头的末端设有喷嘴,在浸润槽中增设有限定部件,限定部件夹持在涂布喷头的端部,使得仅所述涂布喷头的喷嘴浸入浸润槽主体承载的溶剂中。通过限定部件支撑所述喷头,并将非喷嘴部分与溶剂相隔离,避免其他部分残留溶剂,所述限定部件和涂布喷头的接触面设于喷嘴上部,两者之间无缝贴合在一起。
申请公布号 CN103223396A 申请公布日期 2013.07.31
申请号 CN201310173578.2 申请日期 2013.05.10
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 陈晖
分类号 B05C11/11(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I 主分类号 B05C11/11(2006.01)I
代理机构 广东广和律师事务所 44298 代理人 刘敏
主权项 一种用于光阻涂布设备的接触式浸润槽,包括浸润槽主体和涂布喷头,所述涂布喷头的末端设有喷嘴,其特征在于:在浸润槽中增设有限定部件,限定部件夹持在涂布喷头的端部,使得仅所述涂布喷头的喷嘴浸入浸润槽主体承载的溶剂中。
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