发明名称 显影设备
摘要 一种显影设备,包括在旋转时在显影剂容器中循环并传送显影剂的传送螺旋器,在旋转时承载和传送显影剂容器中的显影剂的显影套筒,以及限制显影套筒上的显影剂量的限制刀片。所述显影剂容器包括将显影剂供应给显影套筒的供给室和从显影套筒回收显影剂的回收室,使传送螺旋器的转速或者显影套筒的转速发生改变,使得不执行成像期间的Vsc/Vsl小于执行成像期间的Vsc/Vsl,其中,Vsc表示传送螺旋器的转速,Vsl表示显影套筒的转速。
申请公布号 CN102004415B 申请公布日期 2013.07.31
申请号 CN201010268900.6 申请日期 2010.08.30
申请人 佳能株式会社 发明人 坂卷智幸
分类号 G03G15/08(2006.01)I 主分类号 G03G15/08(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 田元媛
主权项 一种显影设备,包括:显影剂承载部件,其构造为承载和传送显影剂;厚度限制装置,其构造为限制施加给显影剂承载部件的显影剂量;第一室,其构造为容纳所述显影剂以将所述显影剂供应给显影剂承载部件;其中,所述第一室包括开口部,显影剂承载部件的一部分从所述开口部露出;第二室,其构造为与所述第一室一起形成循环通道,其中,所述第二室构造为回收用于在所述显影剂承载部件处显影的所述显影剂;传送装置,其构造为在由所述第一室和第二室形成的所述循环通道中传送所述显影剂;和控制器,其构造为控制所述传送装置的转速和所述显影剂承载部件的转速,使得在第一模式下的比率Vsc/Vsl小于在第二模式下的比率Vsc/Vsl,其中,Vsc表示所述传送装置的转速,Vsl表示所述显影剂承载部件的转速,所述第一模式是不执行成像的模式,所述第二模式是执行成像的模式。
地址 日本东京