发明名称 | 喷嘴头 | ||
摘要 | 本发明是关于一种喷嘴头(2),用于用于使基板(6)的表面(4)经受至少第一前体(A)及第二前体(B)的连续表面反应。该喷嘴头(2)包括两个或更多细长型前体喷嘴(8,10),使该基板(6)的该表面(4)经受该第一前体及第二前体(A,B)。根据本发明,该喷嘴头(2)包括位于输出面(5)上的复数个前体喷嘴(8,10)、复数个冲洗气体通道(12)、及复数个排放通道(42,46),其连续顺序如下:至少一个第一前体喷嘴(8)、第排放通道(42)、冲洗气体通道(12)、第二前体喷嘴(10)、第二排放通道(46)、及冲洗气体通道(12),可选地重复多次。 | ||
申请公布号 | CN103080372A | 申请公布日期 | 2013.05.01 |
申请号 | CN201180041750.8 | 申请日期 | 2011.08.29 |
申请人 | BENEQ有限公司 | 发明人 | P·索伊尼宁;R·恩霍尔姆 |
分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张涛 |
主权项 | 一种喷嘴头(2),所述喷嘴头用于使基板(6)的表面(4)经受至少第一前体(A)及第二前体(B)的连续表面反应,该喷嘴头(2)具有输出面(5),所述输出面包括:一个或更多第一供应通道(40),其用于使该基板(6)的该表面(4)经受该第一前体(A);一个或更多第二供应通道(44),其用于使该基板(6)的该表面(4)经受该第二前体(B);一个或更多冲洗气体通道(12),其用于使该基板(6)的该表面(4)经受冲洗气体;及一个或更多排放通道(42,46),其用于排放该第一前体及第二前体(A,B)、以及冲洗气体,其特征在于:该供应通道(40,44)、该冲洗气体通道(12)、及该排放通道(42,46)沿着纵向,且以如下顺序相继配置:冲洗气体通道(12)、第一供应通道(40)、排放通道(42)、冲洗气体通道(12)、第二供应通道(44)、及排放通道(46),可选地重复多次。 | ||
地址 | 芬兰万塔 |