| 摘要 |
1. Устройство для очистки текучих сред, имеющее массообменный аппарат, который содержит легколетучую текучую среду и труднолетучую текучую среду, который содержит структурированную набивку, причем структурированная набивка содержит первый слой (10) набивки и второй слой (100) набивки, причем первый слой (10) набивки и второй слой (100) набивки имеют волнообразный профиль, причем этот волнообразный профиль образует открытые каналы (12, 14, 16, 112, 114, 116), причем каналы (12, 14, 16) первого слоя (10) набивки перекрещиваются с каналами (112, 114, 116) второго слоя набивки, причем через каналы (12, 14, 16, 112, 114, 116) может протекать труднолетучая текучая среда, так что каналы могут смачиваться этой труднолетучей текучей средой, причем на поверхностях каналов образуется пленка труднолетучей текучей среды, причем очистка либо легколетучей текучей среды, либо труднолетучей текучей среды может осуществляться путем массообмена между легколетучей текучей средой и труднолетучей текучей средой, отличающееся тем, что первый слой (10) набивки находится в контакте со вторым слоем (100) набивки, соприкасаясь через дистанционирующие элементы (24, 34, 44, 134, 144), причем дистанционирующие элементы являются составной частью первого или второго слоя (10, 100) набивки.2. Устройство по п.1, причем дистанционирующие элементы (24, 34, 44, 134, 144) выполнены в виде перемычек.3. Устройство по п. 1, причем дистанционирующие элементы находятся на вершинах (33, 43, 133, 143), ограничивающих открытые каналы (12, 14, 16, 112, 114, 116).4. Устройство по п. 1, причем дистанционирующие элементы (24, 34, 44) расположены в краевой области первого или второго слоя (10, 100) набивки.5. Устройство по п.4, причем краевая область включае� |
