| 发明名称 |
IN-SITU HYDROXYLATION APPARATUS |
| 摘要 |
<p>Described are apparatuses and methods for the hydroxylation of a substrate surface using ammonia and water vapor.</p> |
| 申请公布号 |
WO2013052145(A1) |
申请公布日期 |
2013.04.11 |
| 申请号 |
WO2012US23810 |
申请日期 |
2012.02.03 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC.;CHOI, KENRIC |
发明人 |
CHOI, KENRIC |
| 分类号 |
H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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