转印材料、液晶元件基板之制法及使用它之液晶显示装置

摘要

揭示一种新颖转印材料。该转印材料至少含有：一撑体，以及于其上之一光学单轴或双轴各向异性层，以及一光敏聚合物层。亦揭示一种制造液晶胞基板之新颖制法。该制法至少含有：[1]层压申请专利范围第1至11项中任一项之转印材料于基板上；[2]从层压于基板上之转印材料移除撑体；以及[3]将置于基板上光敏聚合物层曝光。