发明名称 磁控溅射箱体布气结构
摘要 本实用新型公开了一种磁控溅射箱体布气结构,包括内、外两层相互套装的布气管道,内层布气管道安装在外侧布气管道内侧,两者间隔配合;内层布气管道的另一端伸出外层布气管道之外作为进气口;分别在内、外两层布气管道上设置充气孔。内层布气管道的充气孔位于内层布气管道的下表面,外布气管道的充气孔位于外层布气管道的上表面。本实用新型由单筒结构改为双筒结构,所布气体经一次膨胀后,可有效缓冲布气气流,使放气气流更为平稳,有效的提高了箱体布气均匀性。且降低了充气过程中对箱体气氛的扰动,从而保证所镀膜层的均匀性。
申请公布号 CN202744622U 申请公布日期 2013.02.20
申请号 CN201220372769.2 申请日期 2012.07.31
申请人 许昌天地和光能源有限公司 发明人 赵跃林;彭春超;林果
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种磁控溅射箱体布气结构,其特征是:包括内、外两层相互套装的布气管道,外层布气管道固定在靶背面,内层布气管道安装在外侧布气管道内侧;两者间隔配合;所述外层布气管道两端封闭,内层布气管道位于外层布气管道内的一端封闭,内层布气管道的另一端伸出外层布气管道之外作为进气口;分别在内、外两层布气管道上设置充气孔。
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