| 发明名称 | 成像光学系统 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（7；31），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。所述成像光学系统（7；31）具有与第一反射镜（M5）间隔开的另外的可变形反射镜（M3），所述第一反射镜（M5）最紧邻两个场（4、8）中的一个并被指定为相邻反射镜，所述可变形反射镜（M3）被布置于与所述成像光学系统（7；31）中的所述相邻反射镜的布置平面光学共轭的平面中。 | ||
| 申请公布号 | CN102937742A | 申请公布日期 | 2013.02.20 |
| 申请号 | CN201210469736.4 | 申请日期 | 2009.08.26 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 汉斯-于尔根.曼;阿明.舍帕克;约翰尼斯.泽尔纳 |
| 分类号 | G02B17/06(2006.01)I;G02B26/06(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B17/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 具有多个反射镜（M1至M6）的成像光学系统（7；31），其将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8），其特征在于：所述成像光学系统（7；31）具有与第一反射镜（M5）间隔开的另外的可变形反射镜（M3），所述第一反射镜（M5）最紧邻两个场（4、8）中的一个并被指定为相邻反射镜，所述可变形反射镜（M3）被布置于与所述成像光学系统（7；31）中的所述相邻反射镜的布置平面光学共轭的平面中。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||