| 发明名称 | 溅射靶 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种氧化物烧结体，其特征在于，含有铟(In)、镓(Ga)和正三价和/或正四价的金属X的氧化物，相对于In和Ga的总量，金属X的配合量为100～10000ppm(重量)。 | ||
| 申请公布号 | CN102918004A | 申请公布日期 | 2013.02.06 |
| 申请号 | CN201180027030.6 | 申请日期 | 2011.06.01 |
| 申请人 | 出光兴产株式会社 | 发明人 | 笘井重和;江端一晃;松崎滋夫;矢野公规 |
| 分类号 | C04B35/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;H01L21/363(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I | 主分类号 | C04B35/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种氧化物烧结体，其特征在于，含有铟(In)、镓(Ga)和正三价和/或正四价的金属X的氧化物，相对于In和Ga的总量，金属X的配合量，以重量计为100～10000ppm。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||