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Dispositivo (10) para el recubrimiento continuo de substratos (30) discretos planos, en particular de forma basetetragonal, que comprende:* al menos una banda de recubrimiento (20) flexible que está configurada para transferir material derecubrimiento sobre una cara superior de los substratos planos;* medios (21a, 21b) para el movimiento de la banda de recubrimiento flexible;* medios de transporte (33) para mover los substratos planos;* al menos un rodillo de aplicación (11) rotativo que está configurado para transferir material de recubrimientosobre la banda de recubrimiento (20) flexible, y* medios (12, 13, 16) para el suministro de material de recubrimiento hacia el rodillo de aplicación rotativo, en elqueel rodillo de aplicación (11) está provisto en su superficie de al menos una escotadura (14) que está configuradade modo que en la transferencia de material de recubrimiento del rodillo (11) a la banda (20) se genera unhueco de recubrimiento correspondiente en la banda de recubrimiento que está esencialmente libre de materialde recubrimiento,caracterizado porque la escotadura (14) del rodillo de aplicación (11) es una ranura que se extiende en paraleloal eje de rotación del rodillo y al menos uno de los bordes exteriores de la ranura está achaflanado.
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