发明名称 |
等离子处理用圆环状零件及等离子处理装置 |
摘要 |
本发明提供等离子处理用圆环状零件及等离子处理装置。其通过控制电场分布特性而能实现提高等离子处理的均匀性、成品率。该等离子处理装置包括:处理容器,包括内部能保持为真空的处理室;载置台,用于在该处理室内载置被处理基板并且兼作为下部电极;圆环状零件,配置为在该载置台上围绕上述被处理基板的周缘;上部电极,与上述下部电极相对地配置在上述下部电极的上方;供电体,用于向上述载置台供给高频电力;利用在上述处理室内产生的等离子体对上述被处理基板实施等离子处理,在上述圆环状零件的、与生成等离子体的等离子体生成空间侧相反一侧的面上形成至少一个用于将上述等离子体生成空间的电场分布调整为期望的电场分布的环状的槽。 |
申请公布号 |
CN101901744B |
申请公布日期 |
2013.01.30 |
申请号 |
CN201010178050.0 |
申请日期 |
2010.05.18 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
八田浩一;水野秀树 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种等离子处理用圆环状零件,其配置为围绕被实施等离子处理的被处理基板的周缘,其特征在于,该等离子处理用圆环状零件在与生成等离子体的等离子体生成空间侧相反一侧的面上形成至少一个环状的槽,该环状的槽用于将上述等离子体生成空间的电场分布调整为期望的电场分布。 |
地址 |
日本东京都 |