发明名称 高压GaN基异质结晶体管的终止结构和接触结构
摘要 提供了一种半导体器件,该半导体器件包括:衬底;第一有源层,所述第一有源层设置在所述衬底的上方;以及第二有源层,所述第二有源层设置在所述第一有源层上。所述第二有源层具有比所述第一有源层高的带隙,使得在所述第一有源层和所述第二有源层之间产生二维电子气层。在所述第二有源层上设置的终止层包括InGaN。在所述终止层上设置源极接触、栅极接触和漏极接触。
申请公布号 CN101689561B 申请公布日期 2013.01.02
申请号 CN200880009134.2 申请日期 2008.03.20
申请人 电力集成公司 发明人 迈克尔·墨菲;米兰·波普赫里斯蒂奇
分类号 H01L29/205(2006.01)I 主分类号 H01L29/205(2006.01)I
代理机构 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人 郑建晖;杨勇
主权项 一种半导体器件,包括:衬底;设置在所述衬底的上方的第一有源层;设置在所述第一有源层上的第二有源层,所述第二有源层具有比所述第一有源层高的带隙以使得在所述第一有源层和所述第二有源层之间产生二维电子气层;设置在所述第二有源层上的终止层,所述终止层选自由氧化铝、氧化镓、氧化铟和FeN组成的组;以及设置在所述终止层上的源极接触、栅极接触和漏极接触。
地址 美国加利福尼亚州