| 发明名称 | 图案形成方法及光阻组成物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。 | ||
| 申请公布号 | CN102822746A | 申请公布日期 | 2012.12.12 |
| 申请号 | CN201180015598.6 | 申请日期 | 2011.03.25 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 加藤启太;樽谷晋司;土桥彻;上村聪;榎本雄一郎;藤井佳奈;岩户薰;片冈祥平;水谷一良 |
| 分类号 | G03F7/038(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/038(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 一种图案形成方法，其包括：(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物包括：(a在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂；(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物；以及(c)溶剂；(B)将所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使所述经曝光的膜显影，藉此形成负像图案；ΔSP＝SPF‑SPI (1)在所述式(1)中，SPI表示所述树脂的分解前溶解度参数；且SPF表示所述树脂的分解后溶解度参数。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||