| 摘要 |
결정질이며 크랙을 갖지 않고, 높은 경도와 우수한 내마모성을 겸비한 경질 피막층 및 그 형성 방법을 제공하기 위해, 기재(2)를 피복하는 결정질의 경질 피막층(3)은 PVD법에 의해 형성되고, Si와 C를 필수 성분으로 하고, 원소 M[3A족 원소, 4A족 원소, 5A족 원소, 6A족 원소, B, Al 및 Ru 중으로부터 선택된 1종 이상의 원소]과 N을 선택 성분으로 하고, SiCNM(0.4≤x≤0.6, 0≤y≤0.1, 0≤z≤0.2)의 조성을 갖는다. |
