用于控制真空蒸发中蒸汽流的方法和装置

摘要

本发明涉及一种用于涂覆沿着一个行进方向穿过处理区域(6)的行进的基底(25)的方法和装置，其中涂覆材料的蒸气在一个罩(5)中产生，此蒸气朝向处理区域(6)穿过处理开口，在该处理区域中涂覆材料凝结在基底(25)的表面上。穿过处理开口的蒸气的通路通过借助于至少一个密闭元件调节在打开位置和关闭位置之间的处理开口的密闭而被控制，在所述打开位置中，所述蒸气穿过处理设备朝向处理区域(6)；在所述关闭位置中，所述蒸气朝向处理区域(6)穿过处理开口的通路被阻止。

主权项

用于涂覆行进的基底的装置，该基底沿一个行进方向移动，所述装置包括一个密封罩(5)，所述密封罩带有用于所述基底的一个入口(7)和一个出口(8)，在该密封罩中具有一个涂覆材料的蒸气源(4)，所述密封罩具有一个与蒸气源(4)通过至少一个处理开口而连通的处理区域(6)，所述蒸气源(4)使得能够产生用于涂覆基底的蒸气流，其特征在于：设置调节部件用于控制在所述密封罩(5)的内部和由在所述入口(7)和所述出口(8)之间延伸的壁所限定的管状的通道之间穿过所述处理开口的所述蒸气流，所述通道包括所述处理区域(6)，所述调节部件包括密闭元件(13)，这些密闭元件能够在打开位置和关闭位置之间移动，在所述打开位置中，所述蒸气流能够从所述密封罩(5)穿过所述处理开口朝向通道和所述处理区域(6)通过；在关闭位置中，所述处理区域(6)相对于所述密封罩(5)和所述蒸气源被隔离，所述密封罩使得蒸气能够在通道的周围自由循环和分布。