发明名称 Method for fabricating solar cell applications using inductively coupled plasma chemical vapor deposition
摘要 <p>본 발명은 유도결합플라즈마 화학기상증착법을 이용한 태양전지 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 제1전극, P형층, 진성층, N형층 및 제2전극을 포함하는 태양전지를 제조함에 있어서, 수소(H2) 가스 및 실란(SiH4) 가스를 포함하는 혼합 가스를 사용하는 유도결합플라즈마 화학기상 증착 장치를 이용하여 수소화 비정질 실리콘 박막으로 이루어진 상기 진성층을 형성하는 진성층 형성 단계를 포함하되, 상기 혼합 가스는 상기 수소 가스 및 실란 가스의 수소 가스 대 실란 가스 비(H2/SiH4 ratio)가 8 내지 10인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조 방법이 제공된다.</p>
申请公布号 KR101207582(B1) 申请公布日期 2012.12.05
申请号 KR20090101304 申请日期 2009.10.23
申请人 发明人
分类号 C23C16/24;C23C16/513;H01L21/205 主分类号 C23C16/24
代理机构 代理人
主权项
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