| 主权项 |
一种用于最适化一图案之一强度分布的方法，该图案系待利用一光学系统相对于一给定光罩在一基板之一表面内形成，其包含下列步骤：(a)数学表示一代表该给定光罩之所要印刷行为之目标函数；(b)产生一表示该光学系统之给定特性之数学表达式；(c)修正步骤(b)之该数学表达式；(d)根据步骤(c)及步骤(a)之结果产生一干扰图；(e)基于步骤(d)之该干扰图确定该给定光罩之辅助特征，其中对步骤(b)之该数学表达式之修正将该基板之该表面内的不当印刷降至最低。如请求项1之最适化一强度分布之方法，其中步骤(b)中所产生之该数学表达式为至少一表示该光学系统之给定特性之特征函数。如请求项2之最适化一强度分布之方法，其中步骤(c)包括过滤该至少一特征函数。如请求项3之最适化一强度分布之方法，其中该至少一特征函数系相对于该特征函数之侧瓣经过滤。如请求项3之最适化一强度分布之方法，其中该至少一特征函数系在该特征函数之主瓣之外部经过滤。如请求项3之最适化一强度分布之方法，其中该过滤移除了该特征函数之DC分量或某些低空间频率。如请求项3之最适化一强度分布之方法，其中该过滤增强了该特征函数以将步骤(e)中所产生之同相辅助特征及异相辅助特征之局部不平衡降至最低。如请求项3之最适化一强度分布之方法，其中步骤(d)中之该干扰图系藉由用步骤(c)之结果来卷积步骤(a)之结果而产生。如请求项1之最适化一强度分布之方法，其中步骤(e)包括对应于该干扰图选择同相辅助特征及异相辅助特征。一种包含可由至少一机器可读媒体传送之可执行程式码之程式产品，其中藉由至少一可程式化电脑执行该程式码使得该至少一可程式化电脑执行一连串步骤以最适化一图案之一强度分布，该图案系待利用一光学系统在一给定光罩的一基板之一表面内形成，该等步骤包含：(a)数学表示一代表该给定光罩之所要印刷行为之目标函数；(b)产生一表示该光学系统之给定特性之数学表达式；(c)修正步骤(b)之该数学表达式；(d)根据步骤(c)及步骤(a)之结果产生一干扰图；(e)基于步骤(d)之该干扰图确定该给定光罩之辅助特征，其中对步骤(b)之该数学表达式之修正将该基板之该表面内之不当印刷降至最低。如请求项10之程式产品，其中步骤(b)中所产生之该数学表达式为至少一表示该光学系统之给定特性之特征函数。如请求项11之程式产品，其中对步骤(b)之该数学表达式之修正包括过滤该至少一特征函数。如请求项12之程式产品，其中该至少一特征函数系相对于该特征函数之侧瓣经过滤。如请求项12之程式产品，其中该至少一特征函数系在该特征函数之主瓣之外部经过滤。如请求项12之程式产品，其中该过滤移除了该特征函数之DC分量或某些低空间频率。如请求项12之程式产品，其中该过滤增强了该特征函数以将步骤(e)中所产生之同相辅助特征及异相辅助特征之局部不平衡降至最低。如请求项12之程式产品，其中步骤(d)中之该干扰图系藉由用步骤(c)之结果来卷积步骤(a)之结果而产生。如请求项10之程式产品，其中步骤(e)包括对应于该干扰图选择同相辅助特征及异相辅助特征。一种设计一最适光罩之方法，其包含下列步骤：(a)产生一图案之一强度分布，该图案系待利用一光学系统相对于一给定光罩在一基板之一表面内形成；(b)数学表示一代表该给定光罩之所要印刷行为之目标函数；(c)产生一表示该光学系统之给定特性之数学表达式；(d)修正步骤(c)之该数学表达式；(e)根据步骤(d)及步骤(b)之结果产生一干扰图；(f)基于步骤(e)之该干扰图确定该给定光罩之辅助特征，其中对步骤(c)之该数学表达式之修正将该基板之该表面内之不当印刷降至最低。如请求项19之最适化一强度分布之方法，其中步骤(c)中所产生之该数学表达式为至少一表示该光学系统之给定特性之特征函数。如请求项20之最适化一强度分布之方法，其中对步骤(c)之该数学表达式之修正包括过滤该至少一特征函数。如请求项21之最适化一强度分布之方法，其中该至少一特征函数系相对于该特征函数之侧瓣经过滤。如请求项21之最适化一强度分布之方法，其中该至少一特征函数系在该特征函数之主瓣之外部经过滤。如请求项21之最适化一强度分布之方法，其中该过滤移除了该特征函数之DC分量或某些低空间频率。如请求项21之最适化一强度分布之方法，其中该过滤增强了该特征函数以将步骤(f)中所产生之同相辅助特征及异相辅助特征之局部不平衡降至最低。如请求项21之最适化一强度分布之方法，其中步骤(e)中之该干扰图系藉由用步骤(d)之结果来卷积步骤(b)之结果而产生。如请求项20之最适化一强度分布之方法，其中步骤(f)包括对应于该干扰图选择同相辅助特征及异相辅助特征。 |
