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一种溶胶镀膜制造透明导电薄膜的方法，包括：以浸镀或旋转涂布的方式，将第一种奈米粉体溶胶均匀涂布在透光材料表面，其中第一种奈米粉体溶胶为以含氧化铟(In2O3)、氧化锡(SnO2)、氧化锌(ZnO)、四氧化锌锡(Zn2SnO4)、三氧化锌锡(ZnSnO3)、氧化锌铟(Zn2In2O5)、氧化铟锡(In2O3．SnO2)、氧化锑锡(Sb2O3．SnO2)、氧化锌铝(ZnO．Al2O3)、氧化锡氟(SnO2．F)等的奈米粉体溶胶溶液，其奈米粉体粒子粒径分布为1~100nm，固含量为0.1~10.0%，pH=4.0~9.0；前述涂布时的该奈米粉体溶胶溶液的温度控制范围为5~80℃，浸镀的浸泡暂停时间为5秒至10分钟，浸泡后的拉昇速度为10~400厘米/分钟(mm/min)，或旋转涂布的时间为30秒~5分钟，嗣，表面涂布完成的元件，即进行烘乾，烘乾的温度为60~200℃，且时间为10~60分钟，之后，烘乾完成的素材可依导电度需要，进行第二种奈米粉体溶胶涂布，或直接进行如煅烧或微波之后处理，使奈米粒子形成透明导电薄膜；及利用镀膜条件不同，产生片电阻值10至1000 ohm/square的导电薄膜。如请求项1所述之方法，其中所处理的透明材料包括压克力、聚碳酸、聚苯乙稀等透明塑胶材料及其衍生材料、玻璃材料等。如请求项1所述之方法，其中第二种奈米粉体溶胶涂布可为氧化铟(In2O3)、氧化锌(ZnO)或氧化铝(Al2O3)等的奈米粉体溶胶溶液，且其涂布条件范围及烘乾条件同第一种奈米粉体溶胶的涂布条件范围及烘乾条件。如请求项1所述之方法，其中后处理程序中，玻璃的煅烧温度范围为200℃~400℃，煅烧时间为30分钟~4小时，且经过上述处理的透明导电薄膜，片电阻约在10~1000ohm/square之间，而可见光的平均穿透率在80%以上。如请求项1所述之方法，其中后处理程序中，透明塑胶材料以微波处理，所使用的微波频率为2.45GHz，功率为100~1500W，时间为5秒至30分钟，且经过上述处理的透明导电薄膜，片电阻约在10~1000ohm/square之间，而可见光的平均穿透率在80%以上。如请求项1所述之方法，所形成的透明导电薄膜，亦可再以金属电浆离子源植入技术，在加速电压10~80KeV，时间1~10分钟条件下，将铝、氟或镓等元素植入薄膜，且相对于薄膜质量之植入量为1~15%，以降低片电阻值，所得片电阻可在0.3~10 ohm/square之间。 |
