| 主权项 |
一种供反射光罩用之低膨胀玻璃基板，其适合用于在半导体制作中的平版刻法内所用反射光罩之基底材料，该低膨胀玻璃基板包括沿着其外周缘形成之侧表面，一削角部份和一切口部份，该侧表面，削角部份和切口部份全部皆具有0.05微米或更低的表面粗糙度Ra。根据申请专利范围第1项之低膨胀玻璃基板，其中沿着该低膨胀玻璃基板外周缘形成的该侧表面，削角部份和切口部份中至少一者装有具有0.05微米至0.50微米的表面粗糙度Rmax之镜面整饰表面。一种供反射光罩用之低膨胀玻璃基板，其适合作为用在平版刻法中的反射光罩之基底材料，该低膨胀玻璃基板包括沿着其外周缘形成的侧表面和切口部份，该侧表面和切口部份上覆盖着一保护膜用以防止灰尘产生。一种供反射光罩用之低膨胀玻璃基板，其适合作为用在平版刻法中之反射光罩之基底材料，该低膨胀玻璃基板包括沿着其外周缘形成的侧表面和切口部份，该侧表面和切口部份接受过蚀刻处理。根据申请专利范围第1至4项中任一项之低膨胀玻璃基板，其进一步包括在20℃下具有0±10 ppb/℃的热膨胀系数之超低膨胀玻璃基板或超低膨胀结晶玻璃基板。一种反射光罩，其包括在申请专利范围第1至5项中任一项中所定义之供反射光罩用之低膨胀玻璃基板。 |
