发明名称 |
曝光装置用光照射装置、曝光装置及曝光方法 |
摘要 |
本发明提供曝光装置用光照射装置、曝光装置及曝光方法,该曝光装置用光照射装置能够缩短光源部的更换时间及装置的停机时间。光照射装置(80)具备:多个光源部(73),其分别包括灯(71)和使从灯(71)发出来的光具有方向性地射出的反射镜(72);多个灯盒(81),其分别能够安装规定数量量的光源部(73);框架(82),其能够安装多个灯盒(81)。 |
申请公布号 |
CN101859069B |
申请公布日期 |
2012.10.31 |
申请号 |
CN200910180146.8 |
申请日期 |
2009.11.09 |
申请人 |
恩斯克科技有限公司 |
发明人 |
原田智纪;永井新一郎;轻石修作 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I;F21V7/00(2006.01)I;F21V19/00(2006.01)I;F21V5/04(2006.01)I;F21V29/02(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京泛诚知识产权代理有限公司 11298 |
代理人 |
陈波;杨本良 |
主权项 |
一种曝光装置用光照射装置,其特征在于,具备:多个光源部,其分别包括发光部和使从该发光部发出来的光具有方向性地射出的反射光学系统;多个灯盒,其分别能够安装规定数量的所述光源部;框架,其能够安装该多个灯盒,所述灯盒具有支撑所述规定数量的光源部的光源支撑部,将位于由所述光源支撑部支撑的最外周的光源部的中心四边连接的线形成为长方形形状,所述框架具有分别安装所述多个灯盒的多个灯盒安装部,所述多个灯盒安装部使在彼此正交的方向上配置的所述灯盒的个数一致,并形成为长方形形状。 |
地址 |
日本东京都 |