发明名称 在通过设备中将平坦物作处理的方法与装置
摘要 一种将电路板与导体膜运送与处理的方法与装置,在湿化学式通过设备中利用运送滚子作水平运送。在先前技术中,在薄导体膜的场合,如果在同样的设备中也要生产电路板,而不作改装,则不再可能达到所需的运送安全性。依本方法/装置,该所需之运送安全性达成之道,系使电解质流(8)呈镜像对称略沿运送方向(3)朝向该平坦物(1)。当电路板具有盲孔时,为了提高孔中的物质交换作用,故使附加的电解质流(11)呈镜像对称近乎垂直朝向该平坦物(1)。为了进一步使电解质经贯通孔流过,故使该平坦物的两面在电解质中依柏努力原理产生静压差。特别是在电解质的通过设备的场合。系选用「管中管」结构方式以当作电解质流(8)(11)的喷洒管,俾在设备总长度保持一样的情形下,达成较大的活性(有效)设备长度。
申请公布号 TWI374200 申请公布日期 2012.10.11
申请号 TW093133723 申请日期 2004.11.05
申请人 霍尔慕勒机械工程公司 发明人 托马斯 寇西可斯奇
分类号 C25D17/28 主分类号 C25D17/28
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种在湿化学式及/或电解式通过设备中在电解质中将平坦物作运送与处理的方法,将该平坦物作水平运送,该平坦物宜为导体膜及电路板,其特征在:该平坦物在运送平面中通过电解质流(8),该电解质流系呈镜像对称方式从电解质喷流管(10)中的一列第一组开口(9)流到平坦物的上侧及下侧,且其作用到该平坦物上的力量上、下近乎相抵消,其中电解质的流出方向的朝向可帮助将平坦物沿运送方向行进者,该电解质流(8)从具有个别开口(9)的成对设置的电解质喷洒管流出,该开口在平坦物上下侧互相错开,故在该上、下侧的表面交替地产生互相反向的局部区域,它们交替地有小的电解质的静压力及大的静压,该小与大的静压造成在平坦物的贯通孔被电解质流过,且同时与电解质流相关的力量在平坦物上下侧互相抵消。如此即使薄导体膜也可在输送路径上安全地运送。如申请专利范围第1项之方法,其中:该两侧的电解质喷洒管(10)设有至少各另一列开口(12),电解质由该开口向平坦物的方向以一角度i>β/i>流出,此角度i>β/i>与该第一列开口(9)的角度i>α/i>不同,且此电解流(11)与第一列的第一种电解质(8)互不相干地在流出的电解质量与流速方面作改变,且可配合平坦物的需求。如申请专利范围第2项之方法,其中:该第一及第二电解质流的体积流与流速可互相独立地将其密集度作调整并配合平坦物的需求。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该在平坦物两侧第一种电解质流(8)有助于该平坦物运送,该电解质流以一角度i>α/i>相对于运送平面从电解质喷洒管流出,此角度在5°~60°范围中,且宜为15°。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该平坦物系受一电解质流(8)利用在其两端面帮助该平坦物作运送,该电解质流相对于运送平面呈一角度i>α/i>从该电解质喷洒管出来,该角度60°~90°范围,且宜为80°。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该平坦物沿运送路径的处理时间用以下方式加长:利用较不占空间的「双重管」的设置,使第一及第二电解质流从一结构元件流出。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该平坦物利用运送滚子及/或接触滚子运送。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:在作电解质处理时,较平坦物利用接触滚子、接触轮、或端子夹作电接触。如申请专利范围第1或第2项之方法,其中:该平坦物的电解质处理系利用可溶或不可溶的阳极达成。一种在湿化学式或电解质式通过设备将平坦物在电解质中作处理的装置,其中该平坦物作水平运送,该平坦物特别是导体膜与电路板,此装置特别用于实施申请专利范围第1项的方法,其特征在:有电解质喷洒管(10),与平坦物的运送方向成横向且系成对设置,并且在运送平面(170与下侧各有一列开口(9),其中这些开口的朝向使该二组电解喷洒管(10)的电解质流呈镜像对称沿运送方向呈一角度i>α/i>流出,使该两侧(6)(7)的电解质流(8)以相同的冲力作用到平坦物而反向互相抵消。如申请专利范围第10项之装置,其中:该电解质喷洒管中有一列的第二组开口(12),其中第二电解质流(11)的流出角度i>β/i>与第一电解质流(8)的流出角度i>α/i>不同。如申请专利范围第10项之装置,其中:在电解质喷洒管中的第一组开口(9)互相隔一距离,这些开口在上侧(6)与下侧(7)互相错开了同侧之开口之间的一半距离,以在表面产生具有交替的电解质的小静压力与大静压力的区域(14)(15)。如申请专利范围第10项之装置,其中:该第一电解质流(8)相对于平坦物表面的角度i>α/i>在5°~60°范围,且宜为15°。如申请专利范围第10项之装置,其中:该第二电解质流(11)相对于平坦物表面的角度i>β/i>在70°~90°范围,且宜为80°。如申请专利范围第10项之装置,其中:该电解质喷洒管(10)做成「管中管」形式,该列第一组开口(9)设在外管中,而该内管(13)具有第二组开口(12),该第二组开口(12)同时通过外管的壁。如申请专利范围第10项之装置,其中:具有个别影响电解质流(8)(11)的手段,呈泵、阀、翻盖片、移动器、积滞移动器的形式。如申请专利范围第10项之装置,其中:有运送好及/或接触滚子以将平坦物运送。如申请专利范围第10项之装置,其中:有接触滚子、接触轮或端子夹以与平坦物作导电接触。如申请专利范围第10项之装置,其中:在电解质通过设备中有可溶或不可溶的阳极。如申请专利范围第10项之装置,其中:有一对第一电解质喷洒管以喷洒第一种电解质流(8),具有一对与该第一电解质喷洒管分开设置的第二电解质流喷洒管以喷洒第二种电解质流。
地址 德国
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