发明名称 排气净化用触媒及排气之净化方法
摘要 本发明之课题系提供一种触媒组合物、包含该触媒组合物之触媒及该触媒之制造方法,该触媒组合物在净化含有有机化合物及矽化合物排气时可抑制性能经时下降。;该课题系藉由使用在担持贵金属氧化铝上添加沸石之触媒组合物加以解决,大为改善触媒之耐矽性。所添加之沸石之酸量以0.4 mmol.NH3/g~1.5 mmol.NH3/g之范围为佳。
申请公布号 TWI373372 申请公布日期 2012.10.01
申请号 TW094110069 申请日期 2005.03.30
申请人 日挥世界股份有限公司 发明人 中野美树;樱井孝信
分类号 B01J29/22 主分类号 B01J29/22
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种排气净化用触媒组合物,特征在于,其系用以净化含有有机化合物及矽化合物之排气者,包含:(i)担持有贵金属之氧化铝粒子及(ii)沸石粒子;且(iii)前述沸石粒子之重量比率系,相对于前述担持有贵金属之氧化铝粒子与前述沸石粒子之重量和,沸石粒子之重量为1 wt%-70 wt%之范围;而(iv)前述沸石之SiO2/Al2O3莫耳比为5-50之范围。如请求项1之触媒组合物,其中矽化合物为有机矽化合物。如请求项1之触媒组合物,其中矽化合物为有机聚矽氧。如请求项1至3中任一项之触媒组合物,其中进一步包含胶合剂。如请求项1至3中任一项之触媒组合物,其中沸石粒子系包含担持有贵金属之沸石粒子。如请求项1至3中任一项之触媒组合物,其中贵金属为Pt、Pd、Rh、Ir、Ru、该等之合金、或该等之混合物。如请求项1至3中任一项之触媒组合物,其中沸石之酸量为0.4~1.5 mmol NH3/g之范围。如请求项1至3中任一项之触媒组合物,其中将含于沸石中之硷金属换算成氧化物之量及将硷土金属换算成氧化物之量之和为沸石总量之5 wt%以下。一种触媒,其包含:触媒担体;及形成于该触媒担体上之含有如请求项1至8中任一项之触媒组合物的触媒层。如请求项9之触媒,其中触媒层之平均厚度为10~500 μm之范围。一种排气净化方法,其包含使含有机化合物及矽化合物之排气与如请求项9或10之触媒在200~500℃之温度接触反应之程序。一种触媒之制造方法,其系制造如请求项9或10之触媒者,该触媒系用以净化含有有机化合物及矽化合物之排气者,该方法包含:制造含有担持有贵金属之氧化铝粒子及沸石粒子之浆料;及将该浆料涂布于担体并乾燥之程序。
地址 日本