| 发明名称 | 钌络合物混合物、其制造方法、成膜用组合物、含钌膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 为了利用CVD法形成优质的钌薄膜，需要在低温下形成薄膜，因此期望提供一种相对于热具有高反应性的钌化合物。为此，本发明涉及使用下述钌络合物混合物作为原料、利用CVD法等制造含钌膜的方法等，所述钌络合物混合物含有：(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌和相对于(2,4-二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌为0.1~100重量%的双(2,4-二甲基戊二烯基)合钌。 | ||
| 申请公布号 | CN102686771A | 申请公布日期 | 2012.09.19 |
| 申请号 | CN201080059677.2 | 申请日期 | 2010.11.29 |
| 申请人 | 东曹株式会社 | 发明人 | 摩庭笃;大岛宪昭;河野和久;古川泰志;千叶洋一;山本俊树 |
| 分类号 | C23C16/18(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I;C07F15/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 孔宪静 |
| 主权项 | 一种钌络合物混合物，其含有：(2,4‑二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌、及相对于(2,4‑二甲基戊二烯基)(乙基环戊二烯基)合钌为0.1~100重量%的双(2,4‑二甲基戊二烯基)合钌。 | ||
| 地址 | 日本山口县 | ||