| 摘要 |
Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltung offenbart, das gemäß einer Ausführungsform das Bereitstellen eines logischen Entwurfs für das Halbleiterbauelement und das Vergleichen eines Elements in dem logischen Entwurf mit einer Bibliothek aus Elementmustern umfasst. Eine Bibliothek aus Elementmustern wird erstellt, indem Layoutmuster mit elektrischen Eigenschaften ermittelt werden, die von modellierten Eigenschaften abweichen; die Bibliothek enthält ferner ein quantitatives Maß der Abweichung von den modellierten Eigenschaften. In Reaktion auf das Vergleichen und unter Berücksichtigung des quantitativen Maßes wird bestimmt, ob das Element in dem logischen Entwurf akzeptabel ist. Es wird ein Maskensatz erzeugt, der den logischen Entwurf unter Anwendung des Elementes oder eines modifizierten Elementes, wenn das Element nicht akzeptabel ist, umgesetzt wird, und der Maskensatz wird verwendet, um den logischen Entwurf in und auf einem Halbleitersubstrat zu implementieren. |
