发明名称 |
可防止晶圆过反应的反应装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种可防止晶圆过反应的反应装置,包括反应槽和补水管,所述反应槽通过连接管路和厂务排放系统连接,所述补水管伸入所述反应槽内部,还包括缓冲罐、排放管和真空泵,所述缓冲罐设置于所述反应槽的下方,所述反应槽的底部开设一个排放口,所述排放管的一端接所述反应槽的排放口,所述排放管的另一端接所述缓冲罐,所述真空泵设置于所述缓冲罐和所述厂务排放系统的连接管路上。当出现紧急情况,需要快速排放反应液时,通过开启真空泵,使得缓冲罐内的出现负压,由此可使反应槽内的反应液快速经排放口通过排放管流入到缓冲罐内,同时经由补水管对反应槽内的晶圆进行冲洗,可以有效防止晶圆在反应液中时间过长,提高产品良率。 |
申请公布号 |
CN202373562U |
申请公布日期 |
2012.08.08 |
申请号 |
CN201120513869.8 |
申请日期 |
2011.12.09 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
杨勇;杜亮;赖力彰 |
分类号 |
H01L21/306(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/306(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种可防止晶圆过反应的反应装置,包括反应槽和补水管,所述反应槽通过连接管路和厂务排放系统连接,所述补水管伸入所述反应槽内部,其特征在于,还包括缓冲罐、排放管和真空泵,所述缓冲罐设置于所述反应槽的下方,所述反应槽的底部开设一个排放口,所述排放管的一端接所述反应槽的排放口,所述排放管的另一端接所述缓冲罐,所述真空泵设置于所述缓冲罐和所述厂务排放系统的连接管路上。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张江路18号 |