发明名称 雷射退火装置
摘要 本发明之目的系在于减少因惰性气体的温度变动所造成之雷射光折射现象所引起的雷射光照射不均。本发明之雷射退火装置1系具有:气体供给装置10,至少供给惰性气体G至被处理体7的雷射照射区域;及气体温调装置15,系调整惰性气体G的温度。气体温调装置15系调整供给至雷射照射区域的惰性气体G之温度,俾使惰性气体G的温度、与位在惰性气体的供给区域外侧且包围雷射光光路的空间(房间R)之雰围温度间的温差变小。
申请公布号 TWI369262 申请公布日期 2012.08.01
申请号 TW098120374 申请日期 2009.06.18
申请人 IHI股份有限公司 日本 发明人 河口纪仁;川上隆介;西田健一郎;伊泽淳;正木深雪;森田胜
分类号 B23K26/12;H01L21/268 主分类号 B23K26/12
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 日本