| 发明名称 | 光酸发生剂 | ||
| 摘要 | 光酸发生剂。一种以式(I)所示的光酸发生剂化合物：G+Z-(I)，其中G具有式(II)(II)，其中在式(II)中，X是S或I，每个R0通常连接到X，且独立的为C1-30烷基；多环或单环C3-30环烷基；多环或单环C6-30芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R0基团进一步连接到相邻的R0基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺胺。光致抗蚀剂和涂敷薄膜也包括光酸发生剂和聚合物，以及使用所述光致抗蚀剂的电子设备的形成方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102617430A | 申请公布日期 | 2012.08.01 |
| 申请号 | CN201110463187.5 | 申请日期 | 2011.11.30 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 | 发明人 | J·W·撒克里;S·M·科利;J·F·卡梅伦;P·J·拉博姆;O·昂格伊;V·杰恩;A·E·麦德考尔 |
| 分类号 | C07C381/12(2006.01)I;C07C309/06(2006.01)I;C07C303/32(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I;G03F7/039(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | C07C381/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 1.一种以式(I)所示的化合物：G<sup>+</sup>Z<sup>-</sup> (I)其中G具有式(II)：<img file="FSA00000669701100011.GIF" wi="432" he="116" />其中在式(II)中，X是S或I，每个R<sup>0</sup>共同连接到X，且独立的为C<sub>1-30</sub>烷基；多环或单环C<sub>3-30</sub>环烷基；多环或单环C<sub>6-30</sub>芳基；或包括前述至少之一的组合，G具有大于263.4g/mol的分子量，或G具有小于263.4g/mol的分子量，且一个或多个R<sup>0</sup>基团进一步连接到相邻的R<sup>0</sup>基，a是2或3，其中当X是I时，a是2，或当X是S时，a是2或3，且式(I)中的Z包括磺酸阴离子、磺酰亚胺或磺酰胺。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||