光学各向异性层的制造方法

摘要

本发明涉及光学各向异性层的制造方法。该光学各向异性层包含多个设有不同慢轴方向的光学各向异性区域。该方法包括1)光取向性聚合物层形成工序；2)以满足必要条件A和B的方式照射第一偏振光的第一照射工序；3)第二照射工序；4)涂布工序；5)取向工序；以及6)聚合工序。必要条件A和B分别是待照射和照射了第一偏振光区域中光取向性聚合物层的吸光度和双折射率分别满足式i和ii。A(b)/A(a)≤0.95    i[式中，A(a)表示照射第一偏振光前波长为314nm时的吸光度。A(b)表示照射第一偏振光后波长为314nm时的吸光度。]Δn(550)≥0.005    ii[式中，Δn(550)表示波长为550nm时的双折射率。

主权项

一种光学各向异性层的制造方法，所述光学各向异性层由含有聚合性液晶化合物的液晶组合物形成，包含多个设有互不相同的慢轴方向的光学各向异性区域；所述制造方法包括如下工序：(1)将光取向性聚合物涂布于基板的光取向性聚合物层的形成工序；(2)以满足下述必要条件A和必要条件B的方式介由光掩模向所述光取向性聚合物层照射第一偏振光的第一照射工序：必要条件A：待照射第一偏振光的区域中的光取向性聚合物层的吸光度满足式(i)A(b)/A(a)≤0.95    (i)式(i)中，A(a)表示照射第一偏振光前在波长为314nm时的吸光度，A(b)表示照射第一偏振光后在波长为314nm时的吸光度；必要条件B：照射了第一偏振光的区域中的光取向性聚合物层的双折射率满足式(ii)Δn(550)≥0.005    (ii)式(ii)中，Δn(550)表示在波长为550nm时的双折射率；(3)照射所述第一偏振光后，不介由光掩膜地向光取向性聚合物层照射与第一偏振光振动方向不同的第二偏振光从而形成图案化取向膜的第二照射工序；(4)在所述图案化取向膜上涂布所述液晶组合物从而形成涂布膜的涂布工序；(5)将涂布膜保持在所述涂布膜所含有的液晶性成分为液晶状态的温度，由此形成液晶性成分取向了的膜的取向工序；以及(6)使所述液晶性成分取向了的膜所含有的聚合性液晶化合物聚 合的聚合工序。