| 发明名称 | 使用用于去除导电材料的组合物制造阵列基板的方法 | ||
| 摘要 | 使用用于去除导电材料的组合物制造阵列基板的方法。该组合物包括3wt％至15wt％的硝酸、40wt％至70wt％的磷酸、5wt％至35wt％的醋酸、0.05wt％至5wt％的氯化物、0.01wt％至5wt％的氯稳定剂、0.01wt％至5wt％的pH稳定剂、以及剩余量的水，该方法包括以下步骤：通过使用所述组合物蚀刻第一金属层而在基板上形成栅极；在所述栅极上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成半导体层；通过使用所述组合物蚀刻第二金属层而在所述半导体层上形成源极和漏极；在所述源极和漏极上形成钝化层，该钝化层具有使所述漏极露出的接触孔；以及通过使用所述组合物蚀刻第三金属层而在所述钝化层上形成像素电极。 | ||
| 申请公布号 | CN102605373A | 申请公布日期 | 2012.07.25 |
| 申请号 | CN201110455538.8 | 申请日期 | 2006.06.15 |
| 申请人 | 乐金显示有限公司 | 发明人 | 宋桂灿;金钟一;李坰默;曺三永;申贤哲;金南绪 |
| 分类号 | C23F1/16(2006.01)I;H01L21/302(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 孙海龙 |
| 主权项 | 一种使用用于去除导电材料的组合物制造用于液晶显示装置的阵列基板的方法，该组合物包括3wt％至15wt％的硝酸、40wt％至70wt％的磷酸、5wt％至35wt％的醋酸、0.05wt％至5wt％的氯化物、0.01wt％至5wt％的氯稳定剂、0.01wt％至5wt％的pH稳定剂、以及剩余量的水，该方法包括以下步骤：通过使用所述组合物蚀刻第一金属层而在基板上形成栅极；在所述栅极上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成半导体层；通过使用所述组合物蚀刻第二金属层而在所述半导体层上形成源极和漏极；在所述源极和漏极上形成钝化层，该钝化层具有使所述漏极露出的接触孔；以及通过使用所述组合物蚀刻第三金属层而在所述钝化层上形成像素电极。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||